Luvos Heilerde Clean-Maske Naturkosmetik

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12955951: Heilerde-Gesellschaft Luvos Just GmbH & Co. KG - LUVOS Heilerde Clean-Maske Naturkosmetik 15 ml

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Produkteigenschaften: Clean-Maske Mit Edelsalbeiextrakt und Heilerde Reinigt porentief, glättet nachweislich die Hautoberfläche. Naturreine Heilerde und kostbarer Edelsalbeiextrakt, kombiniert mit Zink, Hamamelisextrakt und wertvollem Aprikosenkernöl verleihen diesem hochwertigen Wirkstoffkomplex nachhaltige Pflegeeigenschaften: Reinigt mild und gründlich, befreit die Haut von feinstem Schmutz und Ablagerungen. Verfeinert die Poren, nimmt Glanz und schenkt bei regelmäßiger Anwendung eine nachweislich glattere Hautoberfläche. Ingredients: Aqua, Sorbitol, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil*, Alcohol, Glycerin, Glyceryl Stearate Citrate, Loess, Cetearyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Prunus Armeniaca (Apricot) Kernel Oil*, Hamamelis Virginiana (Witch Hazel) Leaf Extract, Salvia Officinalis (Sage) Leaf Extract*, Magnesium Aluminum Silicate, Zinc Pca, Xanthan Gum, Stearic Acid, Palmitic Acid, Tocopherol, Levulinic Acid, Sodium Levulinate, Sodium Hydroxide, Parfum (Natural Essential Oils), Limonene**, Citral**, Linalool**, Geraniol**, Ci 77891 (Titanium Dioxide), Ci 77492 (Iron Hydroxides). * Rohstoffe aus kontrolliert biologischem Anbau. ** Bestandteile des natürlichen Parfümöls. Quelle: www.luvos.de Stand: 04/2023

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Für schöne und gesund Haut - die Luvos Clean MaskeDie Maske enthält Edelsalbeiextrakt und Heilerde - sie reinigen und glätten nachweislich die Hautoberfläche.Gleichzeitig pflegt Zink, Hamamelisextrakt und Aprikosenkernöl die Haut besonders mild.Die Clean Maske entfernt die Haut von Ablagerungen und Schmutz, verfeinert die Poren und mildert den Glanz.

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Luvos Heilerde Clean-Maske 2X7,5 ml - rezeptfrei - von Heilerde-Gesellschaft Luvos Just GmbH & Co. KG - Gesichtsmaske - 15 ml

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Luvos Clean Maske Mit Edelsalbeiextrakt und Heilerde reinigt porentief, glättet nachweislich die Hautoberfläche Naturreine Heilerde und kostbarer Edelsalbeiextrakt, kombiniert mit Zink, Hamamelisextrakt und wertvollem Aprikosenkernöl verleihen diesem hochwertigen Wirkstoffkomplex nachhaltige Pflegeeigenschaften: Reinigt mild und gründlich, befreit die Haut von feinstem Schmutz und Ablagerungen. Verfeinert die Poren, nimmt Glanz und schenkt bei regelmäßiger Anwendung eine nachweislich glattere Hautoberfläche. Für schöne und gesunde Haut Natürliche wertvolle Inhaltsstoffe: Edelsalbeiextrakt ist seit Jahrhunderten für seine antibakterielle und reinigende Wirkung bekannt. Erwirkt klärend und bekämpft Bakterien, die zur Entstehung von Pickeln und Unreinheiten führen können. Zudem wirkt er regulierend auf eine übermäßige Talgproduktion. Heilerde ist naturreiner Löss, ein eiszeitliches Gesteinspulver aus Mineralien und Spurenelementen, der traditionell fester Bestandteil vielfältiger naturheilkundlicher Anwendungen ist. Zusätzliche Inhaltsstoffe: Zink hat eine talgregulierende, feuchtigkeitsbindende und antimikrobielle Wirkung. Hamamelis wirkt adstringierend - vergrößerte Poren werden zusammengezogen, was zu einem verfeinerten Hautbild führt. Diese Wirkung wird durch Aprikosenkernöl unterstützt. Es ist reich an ungesättigten Fettsäuren und daher besonders wertvoll für die Haut. Es dringt in tiefere Hautschichten, entfaltet dort seine reparierende Wirkung und schenkt eine verbesserte, glatte Hautstruktur. Anwendung: Die Maske gleichmäßig auf Gesicht, Hals und Dekollete auftragen, dabei Augen- und Mundpartie aussparen. Nach ca. 10-15 Minuten die Maske mit lauwarmem Wasser und einem Päd leicht massierend abnehmen. Für eine optima gepflegte Haut anschließend das aufbauende LuvosGesichtsfluid verwenden.

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Luvos Clean Maske Mit Edelsalbeiextrakt und Heilerde reinigt porentief, glättet nachweislich die Hautoberfläche Naturreine Heilerde und kostbarer Edelsalbeiextrakt, kombiniert mit Zink, Hamamelisextrakt und wertvollem Aprikosenkernöl verleihen diesem hochwertigen Wirkstoffkomplex nachhaltige Pflegeeigenschaften: Reinigt mild und gründlich, befreit die Haut von feinstem Schmutz und Ablagerungen. Verfeinert die Poren, nimmt Glanz und schenkt bei regelmäßiger Anwendung eine nachweislich glattere Hautoberfläche. Für schöne und gesunde Haut Natürliche wertvolle Inhaltsstoffe: Edelsalbeiextrakt ist seit Jahrhunderten für seine antibakterielle und reinigende Wirkung bekannt. Erwirkt klärend und bekämpft Bakterien, die zur Entstehung von Pickeln und Unreinheiten führen können. Zudem wirkt er regulierend auf eine übermäßige Talgproduktion. Heilerde ist naturreiner Löss, ein eiszeitliches Gesteinspulver aus Mineralien und Spurenelementen, der traditionell fester Bestandteil vielfältiger naturheilkundlicher Anwendungen ist. Zusätzliche Inhaltsstoffe: Zink hat eine talgregulierende, feuchtigkeitsbindende und antimikrobielle Wirkung. Hamamelis wirkt adstringierend - vergrößerte Poren werden zusammengezogen, was zu einem verfeinerten Hautbild führt. Diese Wirkung wird durch Aprikosenkernöl unterstützt. Es ist reich an ungesättigten Fettsäuren und daher besonders wertvoll für die Haut. Es dringt in tiefere Hautschichten, entfaltet dort seine reparierende Wirkung und schenkt eine verbesserte, glatte Hautstruktur. Anwendung: Die Maske gleichmäßig auf Gesicht, Hals und Dekollete auftragen, dabei Augen- und Mundpartie aussparen. Nach ca. 10-15 Minuten die Maske mit lauwarmem Wasser und einem Päd leicht massierend abnehmen. Für eine optima gepflegte Haut anschließend das aufbauende LuvosGesichtsfluid verwenden.

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Anwendungsgebiet von Luvos Naturkosmetik Heilerde Clean-maske"Schnelle Reinigung plus Pflege-Kick: Die Luvos Clean-Maske putzt auf schonende Art und Weise die Haut blitzblank, nimmt den Grauschleier und lässt sie wieder sauber und rein leuchten. Für jeden Hauttyp geeignet. Für schöne und gesunde Haut. " Wirkstoffe / Inhaltsstoffe / ZutatenLuvos Naturkosmetik Heilerde Clean-maske enthält: AQUA, SORBITOL, HELIANTHUS ANNUUS (SUNFLOWER) SEED OIL*, ALCOHOL, GLYCERIN, GLYCERYL STEARATE CITRATE, LOESS, CETEARYL ALCOHOL, GLYCERYL STEARATE, PRUNUS ARMENIACA (APRICOT) KERNEL OIL*, HAMAMELIS VIRGINIANA (WITCH HAZEL) LEAF EXTRACT, SALVIA OFFICINALIS (SAGE) LEAF EXTRACT*, MAGNESIUM ALUMINUM SILICATE, ZINC PCA, XANTHAN GUM, STEARIC ACID, PALMITIC ACID, TOCOPHEROL, LEVULINIC ACID, SODIUM LEVULINATE, SODIUM HYDROXIDE, PARFUM (NATURAL ESSENTIAL OILS), LIMONENE**, CITRAL**, LINALOOL**, GERANIOL**, CI 77891 (TITANIUM DIOXIDE), CI 77492 (IRON HYDROXIDES). * Rohstoffe aus kontrolliert biologischem Anbau ** Bestandteile des natürlichen Parfümöls Hautverträglichkeit dermatologisch bestätigt. Ohne synthetische Farb-, Duft- und Konservierungsstoffe. Vegan. (PCN 41000811 V2) Luvos Naturkosmetik Heilerde Clean-maske können in Ihrer Versandapotheke www.apolux.de erworben werden.

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LUVOS Heilerde Clean-Maske Naturkosmetik 15 ml von Heilerde-Gesellschaft Luvos Just GmbH & Co. KG (PZN 12955951) günstig kaufen bei Fliegende-Pillen.de - seit über 10 Jahren Ihre Versandapotheke. Günstig, diskret, sicher.